据报道，集邦咨询在最新陈述中指出，2023年全球半导体光刻胶商场出售的收益估计将同比下降6-9%。跟着下流客户库存的继续改进、产能运用的逐渐康复以及AI和智能轿车等运用的老练和激增，估计半导体职业将在2024年迎来复苏。

  半导体光刻胶商场也有望反弹，商场规模将康复到2022年的前史峰值，并进一步增加，到2027年将超越28亿美元。据悉，先进的半导体工艺除了依靠光刻机之外，还依靠光刻胶。光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照耀或辐射，其溶解度产生显着的改变的耐蚀剂刻薄膜资料，它是光刻工艺中的要害资料，首要运用在于显现面板、集成电路与半导体分立器材等纤细图形加工作业。

  现在，全球光刻胶商场首要由东京应化工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学和东进世美肯等制造商主导，其间日本制造商供给份额约为80%。在日本公司占有主导地位的EUV、ArFi/ArF等先进光刻胶范畴，JSR、TOK和信越化学等公司占有肯定主导地位。

  据报道，日本住友化学旗下子公司Dongwoo Fine-Chemistry方案进步其面向韩国半导体公司的KrF和L-line光刻胶价格，涨幅估计在10%到20%之间，原因是原资料和劳动力本钱不断上涨。这些音讯标明，半导体职业在当时环境下面临着许多应战。回来搜狐，检查更加多