众所周知，曩昔几十年以来，芯片制作工艺，主要是光刻工艺。使用光线，将芯片电路图，投影到硅晶圆片上，中心最中心的设备，便是光刻机。 一起光刻技能，就直接界说了芯片工艺，直接决议芯片的制程水平缓功能水平

  光刻机是当时一切芯片制作设备中，最为要害的一环，且是我国自有芯片工业链中，最为单薄的一环，究竟咱们国产的光刻机，仅完成了90nm工艺。 所以一直以来，咱们都需求很多的从荷兰、日本进口光刻机，由于全球除了我国上海微电子之外，也只要荷兰的ASML、日本的佳能、尼康能制作芯片工业的前道光刻机

  1000W大功率半灌胶AC/DC机壳电源 ——LMF1000-23BxxUH系列

  市面上的大功率机壳质量良莠不齐，工程师面临苛刻工况难以选型。为此，金升阳晋级渠道，推出千瓦级半灌胶机壳开关电源--LMF1000-23BXXUH系列，适用于使用环境相对恶劣的工业及野外等场合。该系列具有高效率（96%）、宽作业时分的温度规模等优势，是一款高效率、高牢靠的优质电源产品

  一台近30亿元！ASML下一年出产10台全新EUV光刻机：Intel独吞6台

  集邦咨询的陈述数据显现，ASML阿斯麦将在2024年出产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，其间Intel就定了多达6台。一起，三星星也在活跃比赛新光刻机，台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要目标，直接决议了光刻的实践分辨率，以及最高能到达的工艺节点

  众所周知，现在的芯片工艺均是光刻工艺，即经过光学--化学反应原理，用光线将电路图传递到涂了光刻胶硅晶圆上，构成有用的电路图形。 而芯片十分小，电路图很杂乱，一颗芯片乃至几十层电路路，而用晶体管密度来看，现在的3nm工艺下，每一平方毫米，更是到达了近2亿个晶体管，所以光刻工艺很杂乱和精密