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2021年中国光刻胶未来市场发展的潜力及投资研究报告

来源:杏彩体育官网登录入口发表日期:2023-12-01 21:26:24浏览量:1

  中商情报网讯:近年来,随着大规模和超大规模集成电路的加快速度进行发展,光刻胶作为微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,也迎来了快速地发展。随着中国企业在半导体光刻胶关键技术领域取得突破,以及中国半导体产能快速扩展和供应链自主可控需求带来的发展机遇,国内半导体光刻胶发展。

  光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生明显的变化的耐蚀剂刻薄膜材料。经过几十年不断的发展和进步,光刻胶的应用领域逐步扩大,衍生出非常多的种类,根据应用领域,光刻胶可分为半导体光刻胶、平板显示光刻胶和PCB光刻胶,其技术壁垒依次降低,具体如下图所示:

  光刻胶行业受到各级政府的格外的重视和国家产业政策的重点支持。国家陆续出台了多项政策支持光刻胶行业发展,《重点新材料首批次应用示范指导目录(2019版)》《新材料关键技术产业化实施方案》《关于促进集成电路产业和软件产业高水平质量的发展企业所得税政策的公告》等产业政策为光刻胶行业发展提供了广阔的未来市场发展的潜力,为公司可以提供了良好的生产经营环境。

  在国家一系列红利政策带动下,中国半导体、平板显示及PCB行业发展势头良好。作为半导体、平板显示及PCB行业制造环节中关键的材料,光刻胶的市场需求得到快速释放,尤其是LCD光刻胶产量增长。多个方面数据显示,我国光刻胶产量由2016年7万吨增至2019年11万吨。中商产业研究院预测,2021年我国光刻胶产量可达15万吨。

  多个方面数据显示,我国光刻胶市场规模由2016年53.2亿元增至2019年81.4亿元,年均复合增长率为15.23%。中商产业研究院预测,2021年我国光刻胶市场规模可达93.3亿元。

  目前,光刻胶生产制造主要被日本JSR、东京应化、信越化学、住友化学等制造商所垄断,尤其在高分辨率的KrF和ArF光刻胶领域,其核心技术基本由美国和日本制造商所掌握。中国本土企业在光刻胶市场的份额较低,与国外光刻胶制造商仍存在差距。数据显示,东京应化市场占比最大达27%,杜邦市场占比达17%,JSR市场占比达13%。

  数据显示,2020年我国PCB光刻胶国产企业占比较大达61%,LCD光刻胶及半导体光刻胶国产企业占比较小,其实是依赖于进口。占比分别达35%、29%。

  北京科华微电子材料有限公司是一家中美合资企业,成立于2004年,是一家产品覆盖KrF(248nm)、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂的供应商与服务商,也是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。科华微电子拥有中高档光刻胶生产基地,分别有百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂生产线、G/I线吨/年)和正胶配套试剂生产线nm光刻胶生产线、上海新阳

  上海新阳半导体材料股份有限公司于2004年5月12日在上海市工商行政管理局登记成立。公司营业范围包括制造加工与电子科技、信息科技、半导体材料等。专注于半导体行业所需功能性化学材料产品及应用技术的研发创新、生产制造和销售服务,致力于为用户更好的提供化学材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案,跻身为世界半导体材料供应商与应用技术服务商。

  江苏南大光电材料股份有限公司是一家专门干高纯电子材料研发、生产和销售的高新技术企业。凭借30多年来的技术积累优势,公司先后攻克了国家863计划MO源全系列新产品产业化、国家“02—专项”高纯电子气体(砷烷、磷烷)研发与产业化、ALD/CVD前驱体产业化等多个困扰我国数十年的项目,填补了多项国内空白。2017年,南大光电承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的193nm光刻胶材料的研发与产业化项目。。

  晶瑞电子材料股份有限公司是一家集研发、生产和销售于一体的科技型新材料公司,为国内外新兴科技领域提供关键材料和技术服务。基本的产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料等,大范围的应用于半导体、面板显示、LED等泛半导体领域及锂电池、太阳能光伏等新能源行业。

  深圳市容大感光科技股份有限公司(以下简称“容大公司”)成立于1996年,是一家专业生产高端感光化学材料的国家级高新技术企业。容大公司长期致力于PCB油墨及其他感光化学品的研制、开发,并分别在深圳、惠州设立产品研制中心,始终不断地满足PCB、半导体及触摸屏显示行业发展带来的对产品的质量逐步的提升的技术需求。容大公司已成为国内PCB油墨研发、制造的领航者。

  为鼓励光刻胶产业高质量发展、突破产业瓶颈,我国出台《关于促进集成电路产业和软件产业高水平质量的发展企业所得税政策的公告》《新时期促进集成电路产业和软件产业高水平发展的若干政策》等多项政策支持半导体行业发展,为光刻胶产业的发展提供良好的环境氛围。为应对国外技术出口管制风险,多家中国半导体企业也增加了材料国产化率要求,增加国产半导体光刻胶进入量产产线来测试验证的机会,加快了国产半导体光刻胶研发进度。

  随着5G、智慧物联网时代的到来,以及产业高质量发展环境完善、人才回流、政策支持、资本青睐等众多因素,中国大陆的半导体产业得以在众多领域实现快速与全面布局,正逐步驱使全球半导体产业从韩国、中国台湾向中国大陆转移。

  日韩贸易摩擦启示中国在中美贸易摩擦下急需半导体光刻胶自主可控,为鼓励光刻胶产业高质量发展、突破产业瓶颈,我国出台了多项政策支持半导体行业发展,为光刻胶产业的发展提供了良好的环境氛围。为应对国外技术出口管制风险,多家中国半导体企业也增加了材料国产化率要求,增加国产半导体光刻胶进入量产产线来测试验证的机会,加快了国产半导体光刻胶研发进度。

  更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国光刻胶行业未来市场发展的潜力及投资机会研究报告》,同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、产业研究报告、产业规划、园区规划、十四五规划、产业招商引资等服务。

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