4月2日，记者从华中科技大学获悉，该校与湖北九峰山实验室组成联合研究团队，突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。相关成果日前发表在《化学工程杂志》上。

  据介绍，这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在生产线上完成了初步工艺验证，并同步完成了各项技术指标的检测优化，实现了从技术开发到成果转化全链条打通。

  光刻胶是半导体制造不可或缺的材料，其质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的重要的条件。但光刻胶技术门槛高，市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。

  当半导体制造节点进入到100纳米甚至是10纳米以下，怎么样产生分辨率比较高且截面形貌优良、线边缘粗糙度低的光刻图形，成为光刻制造的共性难题。

  该研究通过巧妙的化学结构设计，以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差（SD）极小（约为0.05）、性能优于大多数商用光刻胶，且光刻显影各步骤所需时间全部符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。

  据悉，该研究成果有望为光刻制造的共性难题提供明确的方向，同时为极紫外线光刻机光刻胶的着力开发做技术储备。

  特别声明：本文转载只是出于传递信息的需要，并不代表代表本网站观点或证实其内容的真实性；如别的媒体、网站或个人从本网站转载使用，须保留本网站注明的“来源”，并自负版权等法律责任；作者若不希望被转载或者可以联系转载稿费等事宜，请与我们接洽。

  FCS 文章精要：华中科技大学廖小飞教授团队——一种支持细粒度数据迁移的混合内存架构

  FCS 文章精要：华中科技大学吴松教授团队——面向容器的页面缓存精确控制方法

  FCS 文章精要：华中科技大学袁平鹏教授团队：回答标记图上有序标签限制可达性查询

  FOE 华中科技大学李露颖课题组：原子尺度自组装有序多维异质结生长机理研究

  FOE 文章荐读 南京信息工程大学董升阳团队与华中科技大学黄亮团队：钾离子预嵌层状MnO2用于水系多价离子电池

  华中科技大学吴树森团队：过量Zr含量及超声处理对Al-Zn-Mg-Cu合金组织和性能的影响 MDPI Metals