作为人类智慧结晶的代表，无论是民用领域还是军工领域，芯片在半导体行业上起着至关重要的作用。而如今美国，日本，荷兰三国拒绝向中国进行芯片制造设备的出口，那么也是不让中国自行进行芯片的生产制造，能够准确的看出美国在对中国步步紧逼的关键时刻，先后打出了限制出口芯片和限制芯片制造设备出口两张牌，很明显限制芯片制造设备的出口对于中国的影响更大。

  然而光刻机一直受限于人，实现国产替代迫在眉睫，所以国产企业正在加速研发光刻机。在半导体行业上，需要应用另外一种材料——光刻胶，光刻胶的重要性丝毫不亚于光刻机。

  光刻胶是一种对光敏感的混合液体，将光刻胶涂布在硅片之上，通过化学反应，经过曝光、显影等光刻工序后，设计在掩膜版上的图形便可转移至待加工基片上。

  光刻胶主要有KRF、ARF、EUV几种，我国在低端光刻胶领域虽然有不错的表现，但在高端领域，我国仍要依赖海外。长时间来，KRF、ARF高端光刻胶市场，被日本企业所垄断,光刻胶巨头技术壁垒高的特点、市场集中度高的特点，给我国公司能够带来了不小的挑战。日本信越化学、东京应化、合成橡胶等企业，都在ARF光刻胶市场占据主导地位，其次是美国、韩国企业。

  光刻胶不仅仅可用于芯片制造，还能应用到印刷工业领域等等，有很广的应用能力，但就是这样一个关键的半导体材料，却一直都被日本企业所垄断，例如东京应化，富士胶片等日本企业，都是全球光刻胶的有突出贡献的公司，在全球光刻胶市场中，掌握着绝大的行业话语权，长期维持对光刻胶的垄断，导致很多芯片代工企业，都必须要和日本企业合作，前一段时间爆发的日韩半导体事件，三星、SK海力士等等，就遭到了光刻胶产品断供，一度不得不面对停产的尴尬局面，可见作为如此关键的芯片材料，其地位甚至不亚于光刻机。

  并且该领域巨头技术垒点高、市场集中度高的特点，给我国公司能够带来了不小的挑战，长期以来，KRF、ARF高端光刻胶市场，都是被日本所垄断，几乎占据了95%以上的市场。虽然美国也有该项技术，但也仅限于自给自足，而我国自给率还达不到5%，能够说是完全依赖于进口。

  为了打破日本企业的垄断局面，实现国产替代确实是当务之急，国产企业强势崛起，国产公司开始研发光刻机，包括中芯国际、上海微电子等企业已经在半导体行业上取得重大突破。同样作为核心材料的光刻胶一直遭遇“卡脖子”，南大光电曾购入193纳米沉浸式光刻机，之后，南大光电便在该设备基础上进行光刻胶产品的开发，如今三个月时间过去，这家中国公司也终于迎来技术突破。

  根据新闻媒体报道，南大光电在投资者互动平台上表示：南大光电公司的ARF光刻胶产品已经掌握了第一份订单。南大光电的ARF光刻胶已经通过了客户认证，并进入到生产线，拿到订单的关键阶段。值得一提的是，南大光电公司拿下了关键订单，在14nm、7nm范围内都能实现覆盖。这在某种程度上预示着国产光刻胶正在打破海外垄断，有望实现崛起。

  国产企业加速崛起，光刻胶的重要性比肩光刻机。尽管南大光电目前的销量很少，但是能说明国产光刻胶企业正在不断兴起，相信不久之后可以在光刻胶市场上站稳脚跟。如今，南大光电公司的光刻胶项目已经建立了25吨产线，掌握了可观的光刻胶量产优势。

  当然我们的国产芯片供应链想要实现技术崛起，仅仅依靠一家公司的力量是远远不足的，因为整个芯片产业链并不是一家公司的独角戏，放眼全球任何一家芯片企业，都无法自己独立完成整个芯片产业链技术布局，所以国产芯片想要实现技术崛起，就必须要整个整个产业链技术的力量，诞生出慢慢的变多的“南大光电”。

  我国有庞大的市场资源，还有无数的企业，在团结一致的作用下，没什么困难是克服不了的。打破国外的技术垄断，让慢慢的变多的芯片核心供应链都能够用上国产技术，我们要充分认识到自主技术的重要性，只有掌握核心科技才能睡上安稳觉。期待国产半导体能取得更大的突破。