光刻胶是微电子技能中微细图形加工的要害资料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的开展，更是大大促进了光刻胶的研讨开发和使用。

  依据观研陈述网发布的《2021年我国光刻胶职业剖析陈述-职业现状与出资远景研讨》显现，为快速推进我国光刻胶工业高质量开展、打破“卡脖子”技能瓶颈，国家层面先后印发鼓励性、支撑性方针，推进咱们国家半导体资料工业的集聚和开展，例如；本年三月份发改委、工信部、财政部、海关总署等联合印发的《关于做好享用税收优惠方针的集成电路企业或项目、软件企业清单拟定作业有关要求的告诉》，该方针提出光刻胶出产企业入围“清单”，可享用税收优惠方针。