芯片制作现在是许多国家难以逾越的距离，其间不光是短少光刻机等中心设备，光刻胶也是重要的一环。

  因而，国内不少公司都在倾力推进光刻胶技能的研制，希望能处理现在简直被日美企业独占的局势。

  近来，国内公司晶瑞电材在投资者互动渠道表明，公司光刻胶产品到达世界中高级水准，在国内具有悠长名誉，安稳出产光刻胶近三十多年，是国内最早规划量产光刻胶的企业之一。

  光刻胶是世界上技能门槛最高的微电子化学品之一，高端产品的研制和出产主要由日系JSR、信越化学、东京应化等少量公司所独占。

  晶瑞电材称，公司承当并完结了国家02专项“i线光刻胶产品研讨开发及工业化”项目。公司为我国前史最悠长、供应量最大的光刻胶出产企业之一，产品序列完全，工业化规划、盈余才能均处于职业领先水平。

  其间g/i线光刻胶已向中芯世界、合肥长鑫等闻名大尺度半导体厂商供货，KrF（248nm深紫外）光刻胶完结中试，现在已进入客户测验阶段，测验通过后即可进入量产阶段。

  ArF高端光刻胶研制作业已真实开端发动，旨在研制满意90-28nm芯片制程的ArF（193nm）光刻胶，满意当时集成电路工业要害资料市场需求。