跟着中美抵触加深，芯片卡脖子问题凸显，光刻机作为半导体工业中最重要的部分也逐步为人所熟知。

  光刻机是一种投影曝光体系：光刻机由光源、照明体系、物镜、工件台等部件拼装而成。

  在芯片制作中，光刻时机投射光束，穿过印有图画的光掩膜版及光学镜片，将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上。经过蚀刻曝光或未受曝光的部分来构成沟槽，再进行堆积、蚀刻等工艺构成线路。

  GCA发明晰第一个商业化应用于半导体制作的步进和重复掩膜设备（第一台光刻机）尔后，Kapser instrument和perkinElmer公司先后推出了对准，投影光刻技能。

  尼康发布第一台商用步进式光刻机NSR-1010G。1984年尼康与GCA各占有30%市场占有率，同年ASML刚刚建立。

  ASML发布TWINSCAN双工件光刻机渠道，出产功率提高35%以上。2003年，ASML与台积电协作推出浸没式光刻机，摩尔定律完成了一次。

  从1961年开端，第一台触摸式光刻机由美国GCA推出，历经60年的开展，ASML后来者居上，渐渐的变成了当时光刻机职业的肯定龙头