根据韩媒 The Elec 报道，日本住友化学子公司东友精密化学（Dongwoo Fine-Chem）通知韩国半导体公司，表示由于原材料和劳动力费用不断上涨，KrF 和 L 系列光刻胶供货价格将上涨 10-20%。

  光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射，其溶解度发生明显的变化的耐蚀剂刻薄膜材料。

  光刻胶是光刻工艺中的关键材料，主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。

  光刻胶品种众多，本次提价涉及的 KrF 光刻胶属于高端光刻胶，是未来国内外厂商的主要竞争市场之一。

  目前光刻胶市场一直由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学和东进半导体等主要制造商主导。

  光刻胶行业需要高度专业化，涉及复杂的树脂、感光酸和添加剂配方，每家公司都将其视为商业机密。

  巨大的技术壁垒，加上从实验室试验到市场生产对纯度和性能的需求，使得整个产品研究开发过程既耗时又复杂。

  此外，实现用户要求和生产线 年的验证，让客户难以转移现有合作的光刻胶公司。

  面对技术和以客户为中心的挑战，光刻胶企业具有强大的谈判能力。最近光刻胶价格的上涨引发了韩国半导体行业的明显反应。

  面对不断上涨的光刻胶价格，晶圆代工厂别无选择，只能将部分成本转嫁给客户（无晶圆厂公司）。 东友精密化学提高光刻胶价格，有几率会使晶圆代工厂和无晶圆厂行业的盈利能力下降。

  光刻胶作为集成电路产业的关键材料正迎来快速地发展，咨询机构 TECHCET 预计，2022 年全球半导体光刻胶市场规模将达到 22 亿美元，同比增长约 7%。然而国内半导体光刻胶市场仍被 TOK（东京应化）、信越化学、JSR（日本合成橡胶）等国外大厂垄断，不过这也代表着本土光刻胶厂商的成长空间巨大。与此同时，近两年在疫情、中美贸易战等不确定因素下，“国产替代”的呼声日渐强烈，为我国光刻胶厂商提供了绝佳的发展机遇。

  南大光电日前发布投资者关系活动记录表，对公司旗下的光刻胶业务及面板材料业务进行了说明，并透露公司旗下已经有两款 ArF 光刻胶进入批量验证阶段。

  南大光电表示，对于市场关注较高的 ArF 光刻胶进展，ArF 光刻胶验证阶段大致上可以分为 PRS（光刻胶性能测试）、STR（小试）、MSTR（批量验证）及 Release（通过验证）四个阶段。

  另一家企业晶瑞电材子公司苏州瑞红 KrF 光刻机及配套设备已顺利搬入实验室，目前光刻胶量产线和测试线都已经安装好，与主要客户的中试进展也非常顺利，逐步开始批量供货。

  除此之外，面对日系光刻胶企业过于强势的话语权，除我国光刻胶企业加速成长外，韩国三星电子也在去年底首次引入东进世美肯半导体的光刻胶进入其量产线，成为三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。

  或许，不久的将来，光刻胶领域的话语权将变得分散，随着竞争对手的增多，日系企业想要再提价也就不容易了。

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