集微网消息 9月14日，南大光电披露最新调研纪要称，公司用来生产ArF光刻胶的核心原材料，由公司自主研发，对于国内具备供应能力的原材料，通过外购解决。目前原材料不存在依赖进口的情况。

  在MO源产品方面，南大光电MO 源产品国内市占率在 40%以上。MO 源主要使用在于 LED 行业，目前行业已暂别快速地增长阶段，但在非功能性照明领域，小间距 LED（Mini LED 和 Micro LED）有着广阔的发展空间，该显示技术具有无拼缝、显示效果好、常规使用的寿命长等优势，且近年来成本下降较快，形成对传统显示的替代趋势。

  南大光电表示，“小间距 LED市场的加快速度进行发展或将给 MO 源业务带来新驱动。同时，公司也在积极关注 MO 源在第三代半导体、光伏及其他化合物半导体领域的应用。”

  与此同时，南大光电持续加大研发投入，关键项目研发和产业化进程加快。MO 源板块，定制产品推陈出新，技术不断向半导体化升级。前驱体板块，多款产品通过客户验证，具备稳定供应的能力。氢类特气板块，研发的新一代安全源产品始终保持对竞争对手的技术先发优势，混配气有多款产品通过主要客户验证并实现批量销售。氟类特气板块，通过工艺革新实现物料循环利用，绿色制造技术不断的提高，持续降本增效，同时围绕三氟化氮延链，强链、补链，布局新产品，为实现氟类电子特气登峰奠定基础。

  关于进口替代，南大光电称，公司的发展历史就是一个国产化替代发展的过程，很多产品如 MO 源、氢类特气等，都是攻克了困扰我国数十年的技术难题，最终成功填补了国内空白，为半导体产业链的协同发展做出重要贡献。

  近期经济发展形势复杂多变，国内半导体产业链的国产替代需求日益紧迫，加快国产化材料进程已是公司与半导体客户的共识，客户对关键材料的验证需求更加迫切。公司以“处理问题”为使命，抢抓机遇，加速推进先进前驱体、同位素气体、ArF 光刻胶等产品验证工作。

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