在科技的范畴里，有一种被称为光刻胶的资料，它的效果在芯片制作中无可代替。这个小小的资料，却承载着整个芯片制作的精细进程，就像画笔在绘画中的效果相同重要。但是，令人遗憾的是，我国一直以来在光刻胶范畴存在技能缺失，80%以上的光刻胶需求依靠进口，这让咱们时间面临着“断粮”和“卡脖子”的危险。

  全球光刻胶商场中，逾越90%的份额都被日本公司独占。尤其是在技能顶级的10纳米及以下制程，简直只要日本企业有才能出产。这种独占局势让咱们在光刻胶供给上极为软弱。

  更令人担忧的是，美国对我国施行芯片制裁后，日本也跟进，宣告不再向我国半导体公司能够供给高端光刻胶。这导致相关芯片的合格率暴降至10-20%。我国企业担任人前赴日本恳求康复供给，但遭到回绝，日方乃至宣称即便供给配方，我国也无法量产。

  但是，我国科学家决计不再受制于人，他们承受着国产光刻胶的重担。近年来，我国在国产光刻胶范畴获得了长足进展，投入了数亿资金，进行了数万次试验。终究，南大光电成功研制了我国第一款自主ArF光刻胶，并通过了客户的验证。上海新阳、晶瑞股份等国内光刻胶厂商也相继获得了技能打破。

  随后，姑苏瑞红、北京科华等企业也完成了阶段性打破，不仅仅能够根本满意干流芯片需求，并且其出产的光刻胶金属杂质份额降至本来的十分之一，归纳功能达到了高精度门槛，完成了质的腾跃。

  这次技能革新让我国打破了日本长达20年的光刻胶独占。与此同时，在其他范畴也获得了国产代替的成功，例如C919大飞机、斗极导航等。我国乃至在医疗范畴完成了全面逾越，打破医疗器械独占，完成了核磁共振仪等设备的国产化。

  尽管我国在光刻胶范畴的起步相对较晚，但现在咱们正在以惊人的速度迎头赶上。国内企业加大了对研制和拓宽的投入，期望能够加快获得新的打破。尽管日本企业现在在光刻胶方面仍有必定优势，但我国国产光刻胶企业也在尽力行进。未来，咱们有望在关键环节完成自主可控，让国际拭目而待。

  在这个科技范畴，我国坚持中心自研，尽力加快国产代替的脚步。光刻胶的打破仅仅很多我国科技打破的一个缩影，咱们正走在科学技能创新的前沿，为我国的开展注入了强壮的动力。