11月10日，国务院国资委党委举行扩大会议着重要高水平做好国资央企体系国有资本运营预算作业，根据国有企业功用分类，拟定要点职业、要害范畴、中心企业的注资规划，推动国有资本向前瞻性战略性新鼓起的工业会集，更好地发挥国有经济战略支撑效果。上海微电子配备(集团) 股份有限公司近宣告，拟申请在境内初次揭露发行股票并上市。作为国内几乎是仅有的光刻机整机厂商，该公司具有90nm及以下的芯片制作才能，商品市场优势大多数表现在这以后道封装光刻机范畴。研究组织表明，国内关于光刻机工业链的出资和支撑力度继续加大，未来若DUV及EUV设备逐渐完成国产化打破，28nm和14nm产线有才能逐渐完成国产化，然后迎来新一轮半导体扩产周期。

  光刻是半导体出产中最重要的工艺过程：光刻是半导体器材制作的最中心过程，直接决议集成电路的功能和良率。光刻机的中心工艺目标包含：分辨率、聚集深度、套刻精度、曝光功率及单位时刻产能等。干流的光刻机均选用浸没体系、可编程光照、畸变批改、热效应批改、对准与外表丈量等高难度技能。

  此前财通证券指出，在光刻配套设备与零件方面，主张重视苏大维格（300311.SZ）、茂莱光学(688502.SH)、芯源微（688037.SH）、精测电子（300567.SZ）、盛美上海（688082.SH）、美埃科技（688376.SH）、炬光科技（688167.SH）、福晶科技（002222.SZ）等。

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