OFweek 2021人工智能在线系列活动】-汽车电子技术在线会议暨在线展

  光刻胶（Photoresist），别称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生明显的变化的耐蚀剂刻薄膜材料。它是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采取了适当的有选择性的光查看详情

  荷兰光刻机巨头ASML在其官网发布声明，称部分光刻机出口许可证被撤销。 根据声明，荷兰政府最近部分撤销了2023年NXT：2050i、NXT：2100i光刻系统的出货许可证，影响了中国大陆的一小部分客户

  1000W大功率半灌胶AC/DC机壳电源 ——LMF1000-23BxxUH系列

  市面上的大功率机壳质量良莠不齐，工程师面对严苛工况难以选型。为此，金升阳升级平台，推出千瓦级半灌胶机壳开关电源--LMF1000-23BXXUH系列，适用于应用环境相对恶劣的工业及户外等场合。该系列具有高效率（96%）、宽工作时候的温度范围等优势，是一款高效率、高可靠的优质电源产品

  一台近30亿元！ASML明年生产10台全新EUV光刻机：Intel独吞6台

  集邦咨询的报告数据显示，ASML阿斯麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，其中Intel就定了多达6台。同时，三星星也在积极角逐新光刻机，台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点

  众所周知，目前的芯片工艺均是光刻工艺，即通过光学--化学反应原理，用光线将电路图传递到涂了光刻胶硅晶圆上，形成有效的电路图形。 而芯片非常小，电路图很复杂，一颗芯片甚至几十层电路路，而用晶体管密度来看，现在的3nm工艺下，每一平方毫米，更是达到了近2亿个晶体管，所以光刻工艺很复杂和精细

  5nm、7nm弯道超车别想！佳能纳米压印“光刻机”无法出口中国 美国封杀

  快科技11月9日消息，据外国媒体报道称，佳能CEO Fujio Mitarai透露，公司的新纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路，但不会卖给中国厂商。 由于该设备能用于制造5nm尖端制程芯片，且不是基于光学技术，引起了中国厂商的兴趣，但可能没办法实现

  7nm、3nm光刻机没有无妨！ASML力挺中国：能把成熟制程做到全球领先

  快科技11月8日消息，全球光刻机巨头ASML（阿斯麦）全球副总裁、中国区总裁沈波接受各个媒体采访时表示，先进制程的光刻机固然重要，但成熟制程同样不容忽视。ASML是全球光刻机巨头，尤其先进制程光刻机只有ASML能够给大家提供，但ASML的先进制程光刻机入华受到限制