光刻胶起源于美国，柯达KTFR光刻胶为光刻胶工业的开创者，光刻胶跟随摩尔定律不断演进。1950s贝尔实验室尝试开发首块集成电路，半导体光刻胶由此诞生，并成为六七十年代半导体工业的主力体系，为半导体工业发展立下汗马功劳。

  光刻胶是半导体，面板，PCB等领域加工制造中的关键材料。光刻胶是由树脂，感光剂，溶剂，光引发剂等组成的混合液态感光材料。光刻胶应用的原理是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形转移到加工衬底上，来达到在晶圆上刻蚀出所需的图形或抗离子注入的目的。

  光刻胶产业链上游为原材料以及设备，包括树脂、溶剂、单体、光引发剂、生产设备和检测设备等；中游为光刻胶，最重要的包含PCB光刻胶、面板光刻胶、半导体光刻胶；下游为应用领域，光刻胶大范围的应用于PCB、半导体、面板显示、芯片等。

  当前光刻胶市场发展的潜在能力巨大。根据北京研精毕智信息咨询有限公司的多个方面数据显示，2020年全球光刻胶市场规模约19亿美元，2021年增长至20亿美元。预计在2022年市场规模将增长到22亿美元左右。

  从光刻胶下游应用领域分布情况看，全球光刻胶在面板显示领域所占比重最高，约为28%。在半导体领域的应用比例为22%，其次是PCB领域，占比约23%。光刻胶在其他领域的占比攻击约27%。

  北京研精毕智的多个方面数据显示，全球光刻胶细分市场中，ArFi光刻胶和KrF光刻胶的市场占有率最大，均在30%以上，分别为40%和33%。其次是g/I光刻胶，市场占有率约为17%。ArF市场占有率约10%。其他细分市场市场占比约1%。

  目前全球的光刻胶生产企业大多分布在在日本与美国，在最为尖端的ArF干法光刻胶、ArF浸没式光刻胶和EUV光刻胶产品领域，日本与美国厂商拥有绝对的垄断地位，而我国在这些尖端半导体光刻胶产品上虽有一定的技术储备和产品验证，但是在量产层面完全处于空白。

  从全球市场来看，2021年行业CR6约为88%，市场集中度高。东京应化、JSR、住友化学、富士胶片四大日本企业分别占据27%、13%、12%、8%的市场占有率，陶氏化学占据17%的市场占有率，韩国东进占据11%的市场份额。

  北京研精毕智信息咨询是一家专业化市场调查与研究公司，专注为国内、国际客户提供市场调查与研究服务，帮助公司识别当前的市场发展的新趋势，发现要解决的业务问题，协助企业降低业务风险，并提供有价值的细分市场数据，帮助客户在市场上获得相对于商业竞争对手的竞争优势，主体业务：市场调查与研究报告， 客户委托调查项目、行业研究报告、定制报告。返回搜狐，查看更加多