中商情报网讯：光刻胶又称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照耀或辐射，其溶解度产生显着的改变的耐蚀剂刻薄膜材料，是半导体制作中运用的中心电子材料之一。伴跟着晶圆制作规划继续提高，我国有望接受半导体光刻胶工业链转移。

  现在，我国光刻胶工业链雏形初现，从上游原材料、中游制品制作到下流使用均在逐步完善，且跟着下流需求的逐步扩展，光刻胶商场规划显着地增加。中商工业研究院发布的《2024-2029全球及我国光刻胶和光刻胶辅助材料职业开展现状调研及出资远景剖析陈述》显现，我国光刻胶商场规划由2017年58.7亿元增至2022年98.6亿元，年均复合增加率为10.9%。中商工业研究院剖析师猜测，估计2023年我国光刻胶商场规划可达109.2亿元。

  在“进口代替”的趋势下，光刻胶商场具有极大的国产代替空间，现有上市公司加快光刻胶产能的布局，详细如图所示：

  更多材料请参考中商工业研究院发布的《我国光刻胶职业未来商场开展的潜力及出资时机研究陈述》，同时中商工业研究院还供给工业大数据、工业情报、职业研究陈述、职业白皮书、商业计划书、可行性研究陈述、园区工业规划、工业链招商图谱、工业招商指引、工业链招商调查&推介会等服务。