中商情报网讯：光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生明显的变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。

  在国家一系列红利政策带动下，中国半导体、平板显示及PCB行业发展势头良好。作为半导体、平板显示及PCB行业制造环节中关键的材料，光刻胶的市场需求得到快速释放，尤其是LCD光刻胶产量增长。多个方面数据显示，我国光刻胶产量由2016年7万吨增至2019年11万吨。中商产业研究院预测，2021年我国光刻胶产量可达15万吨。

  数据显示，我国光刻胶市场规模由2016年53.2亿元增至2019年81.4亿元，年均复合增长率为15.23%。中商产业研究院预测，2021年我国光刻胶市场规模可达93.3亿元。

  为鼓励光刻胶产业高质量发展、突破产业瓶颈，我国出台《关于促进集成电路产业和软件产业高水平质量的发展企业所得税政策的公告》《新时期促进集成电路产业和软件产业高水平发展的若干政策》等多项政策支持半导体行业发展，为光刻胶产业的发展提供良好的环境氛围。为应对国外技术出口管制风险，多家中国半导体企业也增加了材料国产化率要求，增加国产半导体光刻胶进入量产产线来测试验证的机会，加快了国产半导体光刻胶研发进度。

  随着5G、智慧物联网时代的到来，以及产业高质量发展环境完善、人才回流、政策支持、资本青睐等众多因素，中国大陆的半导体产业得以在众多领域实现快速与全面布局，正逐步驱使全球半导体产业从韩国、中国台湾向中国大陆转移。

  伴随着变成全球电子产业核心，中国目前慢慢的变成了最大的半导体市场，并且继续保持最快的增速。在2020年上半年，全球遭遇新冠疫情反复和中美贸易摩擦的背景下，中国集成电路产业销售额达到3639亿元，逆势同比增长16.1%，成为全世界产业最大增长引擎。

  日韩贸易摩擦启示中国在中美贸易摩擦下急需半导体光刻胶自主可控，为鼓励光刻胶产业高质量发展、突破产业瓶颈，我国出台了多项政策支持半导体行业发展，为光刻胶产业的发展提供了良好的环境氛围。为应对国外技术出口管制风险，多家中国半导体企业也增加了材料国产化率要求，增加国产半导体光刻胶进入量产产线来测试验证的机会，加快了国产半导体光刻胶研发进度。

  更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国光刻胶行业未来市场发展的潜力及投资机会研究报告》，同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、产业研究报告、产业规划、园区规划、十四五规划、产业招商引资等服务。