除了光刻机之外，先进半导体工艺还依靠光刻胶，这方面的供给也主要是靠美日等公司，现在国产光刻胶现已在部分范畴获得打破，晶瑞电材日前泄漏他们的光刻胶已能用于0.25-0.13um工艺，也便是250-130nm工艺。

  子公司瑞红(姑苏)电子化学品股份有限公司的KrF光刻胶产品分辨率达到了0.25~0.13m 的技能方面的要求，现已过部分重要客户测验，KrF高端光刻胶部分种类已量产。

  公司子公司瑞红(姑苏)电子化学品股份有限公司凭仗强壮的研制实力和杰出的产品的长处，获得了下流客户的认证，开辟并维系了一大批国内外优质客户，构建了优质的事务渠道并成功进入优异客户的供给链。

  据了解，晶瑞电材是国内最早从事光刻胶出产的企业之一，现在现已获得合肥长鑫、士兰微、扬杰科技、福顺微电子、中芯世界等国内企业的供货订单。

  光刻胶有不同的技能类别，低端的中g线/i线%，KrF光刻胶自给率缺乏5%，而高端的ArF光刻胶彻底依靠进口，是国内半导体的卡脖子技能之一。