众所周知，在美国中止向我国企业供给芯片后，不少我国企业参加了国产芯片的研制和出产。

  我国芯片的开展现在卡在了芯片量产的门槛上。详细体现在芯片的光刻工艺上。这个环节的好坏直接决议了芯片的功能。它被称为半导体。工业之魂在于，现在我国发动了换机方案，芯片制作的要害资料现已完结量产。

  要害资料是光刻胶，也是光刻工艺中必不可少的资料。光刻胶和光刻机位置相同，需求协作运用才干完结这样的一个进程。因为在芯片范畴起步较晚，咱们在这两方面的研制上也不能放松。

  相比之下，光刻机由许多精细化的部件组成，其研制难度更大，尤其是高端光刻机的研制。重要原因。

  相比较而言，光刻胶的研制就顺畅多了，尤其是在我国加大投入的布景下，国产光刻胶一再传来喜讯，而最早带来喜讯的是姑苏一家名为瑞鸿的企业成功开宣布第二代光刻胶并完结量产。

  不久之后，南大光电研究所完结了跨越式开展，研制出第四代光刻胶，可供我国现在具有的第四代光刻机运用。这代表我国国产光刻胶慎重进入高端商场。

  据最新消息报导，我国北京科华公司称，公司已具有第五代光刻胶的出产技术。这种光刻胶足以调配荷兰最早进的EUV光刻机运用，意味着我国在光刻胶范畴正式赶上国际商场。

  日本和韩国曾经是先进光刻胶出产的独占，现在这一个商场将参加我国公司。当然，惋惜的是我国现在还没有高端的EUV光刻机。此前与荷兰ASML的进口协作也告一段落。这是我国往后需求加倍努力的方向。