近日，沃衍资本携手江苏盛世投资、紫荆资本、深圳市投控通产新材料创业投资企业、四川润资、北京高盟新材料等投资机构完成了对国内光刻胶领头企业—北京科华微

  北京科华微电子材料有限公司（以下简称科华微电子）成立于2004年8月，是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。2017年获得SEMI全球光刻胶企业前十；2018年获批“光刻胶国家地方联和工程研究中心” ；并建有北京市发改委命名的“光刻胶北京市工程实验室”。

  科华微电子陈昕总带领的国际化团队从事光刻胶行业近三十年，在光刻胶领域有着非常丰富的实践经验和理论经验，完成了紫外正性光刻胶、集成电路用高分辨G线正胶、I线nm深紫外光刻胶的产线建设和量产出货，是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的行业标杆企业，特别是KrF-248nm光刻胶代表了国内目前最先进的光刻胶研发与生产水平。科华微电子一直以来坚持自主创新，将以客户的真实需求为导向的研发创新作为公司的核心竞争力，建成了一支国际化研发团队，在光刻胶成膜树脂结构、感光材料结构、光刻胶配方及生产的基本工艺控制技术等方面取得了很大的成就，并在高端晶圆加工应用、先进封装应用、MINI

  、MICRO LED、分立器件应用等领域积累了丰富的系列新产品和深厚的技术储备，是中芯国际、华润上华、杭州士兰微、吉林华微电子、三安光电、华灿光电、德豪光电等行业顶尖客户的稳定合作伙伴。在设备配置方面，科华微电子也体现出了国内光刻胶企业的领头羊：拥有KrF-248nm光刻胶分析测试及应用测试平台、I线光刻胶应用实验室、Hit

  hi SEM扫描电镜、TEL涂胶显影一体机等设备，可以对KrF-248nm光刻胶、G/I线光刻胶等全部的产品进行全面的应用检测评估。值得一提的是，科华微电子是目前国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，其最小分辨率可达0.11um。通过与客户晶圆厂同样的检测设备配置，实现了上下游产品检验测试的无缝对接。科华微电子始终将光刻胶国产化事业作为企业的愿景和使命，企业成立至今承接了国家02

  重大专项、国家“163”重大科学技术项目、国防科工委“十一五”重点科技项目、国家发改委产业化示范工程建设项目以及北京市科委重点计划项目、北京市工业促进局工业发展资金项目等国家级、北京市级重大课题，在各级政府的支持下科华微电子不负众望，实现了G线正胶、I线nm深紫外光刻胶的产业化，加快了半导体事业国产化进程。谈及此次融资，沃衍资本创始合伙人成勇表示：“沃衍资本一直秉持以技术为导向、专注的投资理念，半导体领域是沃衍资本重点投资方向，希望可以和该领域内真正有技术实力和竞争力的企业合作，助力其加快速度进行发展。而科华就是具备技术高度、研发能力、产业化能力的企业，以陈昕总为首的公司团队多年来一直深耕光刻胶行业，能够感受到对光刻胶行业深深的热爱和坚持以及为国贡献的情怀，同时对整个下业、产品线配置、研发技术趋势等有着很深刻的认识。在国际环境日益复杂化的今天，科华微电子的地位和重要性日益凸显，是真正的完成国家自主知识产权技术、提升国内

  工艺水平实现进口替代的中坚力量，科创板的推出也会为科华微电子提供更好的展现舞台，沃衍资本希望可以与其携手共同走向成功！”

  文章出处：【微信号：SEMI2025，微信公众号：半导体前沿】欢迎添加关注！文章转载请注明出处。

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  深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个

  技术是曝光技术中重要的组成部分,高性能的曝光工具需要有与之相配套的高性能的

  的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、耐热性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（So

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