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混合液晶 单体液晶

EUV - OFweek电子工程网

来源:杏彩体育官网登录入口发表日期:2024-04-10 13:26:04浏览量:1

  OFweek 2021人工智能在线系列活动】-轿车电子技能在线会议暨在线展

  极紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常称作EUV光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技能。详细为选用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线便是指一定要经过通电激起紫外线管的K极然后放射出紫外线。

  众所周知,全球最牛的光刻机厂商,是荷兰的ASML,它垄断了全球90%的光刻机商场,EUV光刻机商场更是高达100%,只要它能制作。 但ASML外表上看是荷兰的,其实便是被美国操控的,ASML是美国毅力的产品,没有美国在背面推进,支撑,ASML不行能有如此位置

  一台近30亿元!ASML下一年出产10台全新EUV光刻机:Intel独吞6台

  集邦咨询的陈述数据显现,ASML阿斯麦将在2024年出产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,其间Intel就定了多达6台。一起,三星星也在活跃比赛新光刻机,台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要目标,直接决议了光刻的实践分辨率,以及最高能到达的工艺节点

  关于半导体职业而言,光刻技能和设备发挥着基础性效果,是必不行少的。 ?所谓光刻,便是将设计好的图形从掩模版转印到晶圆外表的光刻胶上所运用的技能。光刻技能最早应用于印刷工业,之后长时间用来制作印刷电路板(PCB),1950年代,跟着半导体技能的鼓起,光刻技能开端用来制作晶体管和集成电路(IC)

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